关键尺寸在线监控结构的形成方法

摘要

本申请公开了一种关键尺寸在线监控结构的形成方法，涉及半导体制造领域。该关键尺寸在线监控结构的形成方法包括对预定膜层进行光刻和刻蚀，形成预定图形和衬垫图形，所述衬垫图形位于关键尺寸在线监控区域；通过光刻工艺形成关键尺寸在线监控结构和预定光刻图形，所述关键尺寸在线监控结构位于所述衬垫图形的表面；解决了目前关键尺寸在线监控结构在较厚膜层结构形成后的注入层次容易发生倾覆的问题；达到了改善关键尺寸在线监控结构在注入层次发生倾覆的现象，提升关键尺寸在线监控结构的稳定性的效果。