首页> 中国专利> 一种用于提高SRAM读电流的结构

一种用于提高SRAM读电流的结构

摘要

本发明提供一种用于提高SRAM读电流的结构,分别包括第一至第三Fin结构的第一、第二读取上拉管和第一、第二读取通过门;第一栅极置于第一读取上拉管的第一至第三Fin结构上;第二栅极置于第二读取上拉管的第一至第三Fin结构上;第三栅极置于第一读取通过门的第一至第三Fin结构上;第四栅极置于第二读取通过门的第一至第三Fin结构上;第三栅极和第四栅极通过第一栅极金属连接;第二读取上拉管的第一至第三Fin结构的另一端通过第三金属条形结构与第二读取通过门的第一至第三Fin结构的一端连接。本发明的RPD和RPG中的至少一个改变为NLVT或NULVT后,读取电流得到明显改善,对读取干扰问题没有副作用。不增加新光罩,RPD和RPG之间的间距足够大,可以进行工艺修改。

著录项

  • 公开/公告号CN113393880A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力集成电路制造有限公司;

    申请/专利号CN202110597287.0

  • 发明设计人 李勇;

    申请日2021-05-31

  • 分类号G11C11/413(20060101);H01L27/11(20060101);

  • 代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人戴广志

  • 地址 201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室

  • 入库时间 2023-06-19 12:33:50

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号