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基于空间规律掺杂且兼容传统光学薄膜的无刻蚀超构表面

摘要

本发明公开了基于空间规律掺杂且兼容传统光学薄膜的无刻蚀超构表面,所述掺杂超表面由若干掺杂区域中的单元排列形成;其中,通过在半导体薄膜材料的特定区域进行掺杂,掺杂区域单元的介电函数被改变,从而实现对电磁波的偏振、传播模式以及相位等的高效调控,称之为掺杂超构表面。本发明的有益效果在于,相对于传统的超构表面来说,这种掺杂超构表面具有其自身独特的优势:由于没有刻蚀微纳结构,其表面光滑平整度高,可以允许在其上进一步镀制光学增透膜等其他功能性光学薄膜而不改变其超构表面的光学性质。换言之,掺杂超构表面在实现一般超构表面的聚焦功能的同时,还能像传统透镜表面一样兼容功能性薄膜的镀制,从而在性能上获得进一步的提高和拓展。

著录项

  • 公开/公告号CN113376712A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中山大学;

    申请/专利号CN202110654248.X

  • 发明设计人 郑伟;丁莹;程璐;

    申请日2021-06-11

  • 分类号G02B1/00(20060101);G02B1/115(20150101);

  • 代理机构44367 深圳市创富知识产权代理有限公司;

  • 代理人高冰

  • 地址 510275 广东省广州市海珠区新港西路135号

  • 入库时间 2023-06-19 12:32:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-07-18

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G02B 1/00 专利申请号:202110654248X 申请公布日:20210910

    发明专利申请公布后的驳回

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