制造方解石纳米流体通道

摘要

描述了一种用于制造纳米流体装置中的方解石通道的方法。将多孔膜附着至衬底。将方解石沉积在附着至衬底的多孔膜中的多孔开口中。所沉积的方解石中的开口的宽度在50至100纳米(nm)的范围内。将所述多孔膜进行蚀刻以从衬底去除多孔膜，从而形成制造的方解石通道结构。各个通道的宽度在50至100nm的范围内。