用于抛光多晶硅的CMP浆料组合物及利用其的抛光方法

摘要

本发明涉及一种用于抛光多晶硅的CMP浆料组合物及利用其的抛光方法。根据本发明的实施方式的用于抛光多晶硅的CMP浆料组合物包括抛光粒子；表面粗糙度改进剂；包含有机酸的抛光调节剂；以及pH调节剂。