公开/公告号CN113136567A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-07-20
原文格式PDF
申请/专利权人 拓荆科技股份有限公司;
申请/专利号CN202110269674.1
申请日2021-03-12
分类号C23C16/455(20060101);C23C16/52(20060101);
代理机构21229 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙);
代理人霍光旭
地址 110179 辽宁省沈阳市浑南区水家900号
入库时间 2023-06-19 11:55:48
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-15
授权
发明专利权授予
机译: 利用相同能力改善沉积均匀性的薄膜沉积方法和薄膜沉积装置模块
机译: 薄膜沉积的坩埚设备和薄膜沉积装置,包括用于改善沉积在基材上的有机薄膜的均匀性的装置
机译: 用于改善薄膜沉积和使用该薄膜沉积物的基板处理装置的均匀性的气体喷射装置