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公开/公告号CN113138125A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-07-20
原文格式PDF
申请/专利权人 北京工业大学;
申请/专利号CN202110430040.X
发明设计人 王立华;李东伟;马炎;韩晓东;邓青松;
申请日2021-04-21
分类号G01N3/08(20060101);G01N3/06(20060101);G01N1/28(20060101);G01N1/32(20060101);
代理机构11562 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人张雪
地址 100124 北京市朝阳区平乐园100号
入库时间 2023-06-19 11:55:48
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-03-14
授权
发明专利权授予
机译: 滑动推力轴承,带双可倾瓦块-使用封闭链原位处理瓦块
机译: 碳纳米管生产方法,碳纳米管组装线生产方法,碳纳米管组装线束生产方法,碳纳米管生产装置,碳纳米管组装线生产装置和碳纳米管组装线束生产装置
机译: 碳纳米管制造方法,碳纳米管组装线的制造方法,碳纳米管组装线束的制造方法,碳纳米管制造装置,碳纳米管骨料线制造装置和碳纳米管组装线束制造装置
机译:单轴拉伸期间聚合物膜原位X射线衍射测量的加热/拉伸装置的研制
机译:碳纳米管制作方法和装置
机译:白色X射线的双BSCCO线和应变测量临界电流的单轴拉伸和压缩应变依赖性
机译:单轴拉伸流下聚合物熔体流动诱导结晶的原位X射线散射研究
机译:单轴拉伸胶体晶体的原位超小角X射线散射研究所述胶体晶体由带有氢键聚合物接枝物的二氧化硅纳米粒子制备
机译:用原位TEM直接可视化基于溶液的纳米制作方法:化学湿法蚀刻和基于溶液的高纵横比纳米结构的清洁/干燥
机译:改进的磁编码装置及其制作方法