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晶圆级封装方法以及晶圆级封装结构

摘要

本发明公开了一种晶圆级封装方法以及晶圆级封装结构,在待封装芯片上需要制作两层金属层,相对于常规三层金属层以及三层绝缘介质层方案,本发明技术方案只需要两层再布线层以及两层绝缘介质层即可以实现重新布线的效果,减少了一层金属层以及绝缘介质层;由于减少了一层绝缘介质层以及一层金属层,可以显著降低封装过程中未切割前晶圆表面的翘曲度,使得翘曲度降低到3mm以下,可以提高第二层绝缘介质层的平整度,简化了制作工艺,降低了封装成本,可以实现大批量的量产,提高了封装效率。

著录项

  • 公开/公告号CN113140521A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海艾为电子技术股份有限公司;

    申请/专利号CN202010063767.4

  • 发明设计人 李作胜;殷昌荣;程彦敏;高佳林;

    申请日2020-01-20

  • 分类号H01L23/31(20060101);H01L23/498(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人张静

  • 地址 201199 上海市闵行区秀文路908弄2号1201室

  • 入库时间 2023-06-19 11:54:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-22

    授权

    发明专利权授予

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