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公开/公告号CN112976568A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-06-18
原文格式PDF
申请/专利权人 天马日本株式会社;
申请/专利号CN202011414210.7
发明设计人 沟口亲明;
申请日2020-12-04
分类号B29C64/129(20170101);B29C64/20(20170101);B33Y10/00(20150101);B33Y30/00(20150101);
代理机构11332 北京品源专利代理有限公司;
代理人谭营营;胡彬
地址 日本神奈川县川崎市
入库时间 2023-06-19 11:30:53
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-07-08
实质审查的生效 IPC(主分类):B29C64/129 专利申请号:2020114142107 申请日:20201204
实质审查的生效
机译: 光学表面形成方法,制造用于制造光学器件的蚀刻基体的方法,制造光学器件,压模,蚀刻基体,光学器件和光学仪器的方法
机译: 光学形成装置,形成方法和三维物体
机译: 膜形成方法,图案形成方法,光学器件制造方法和电子器件制造方法
机译:抗蚀剂涂层膜机,形成相同和图案形成方法的方法,以及半导体器件
机译:基于衍射模型的恒定厚度三维物体的傅里叶光学器件
机译:使用正交网格方法的三维物体围绕三维物体的晶格形成方法研究
机译:用于增强工艺性能和材料特性的混合增量板形成方法
机译:基于丝绸的衍射光学器件:使用基于丝绸的衍射光学平台进行光致可调和可重构电子和光子器件(Adv。Sci。14/2020)
机译:在英语课程中作为一种在高等教育机构中的形成方法中的形成方法
机译:mEms电容式悬臂应变传感器,器件和形成方法。