首页> 外国专利> Film forming method, patterning method, optical device manufacturing method, and electronic device manufacturing method

Film forming method, patterning method, optical device manufacturing method, and electronic device manufacturing method

机译：膜形成方法，图案形成方法，光学器件制造方法和电子器件制造方法

页面导航

摘要
著录项
相似文献

摘要

An apparatus for forming a film includes a first nozzle discharging a first chemical species, and a second nozzle discharging a second chemical species.

机译：用于形成膜的设备包括排出第一化学物质的第一喷嘴和排出第二化学物质的第二喷嘴。

著录项

公开/公告号JP4356113B2

专利类型
公开/公告日2009-11-04

原文格式PDF
申请/专利权人セイコーエプソン株式会社;
展开▼

申请/专利号JP20050229521
发明设计人宮澤貴士;
展开▼

申请日2005-08-08
分类号C23C16/455;B05B7/08;B05D1/26;H01L21/28;H01L21/288;H01L21/336;H01L29/786;H01L21/31;H01L21/285;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:40:22

相似文献

专利
外文文献
中文文献