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一种CVD生长石墨烯用铜膜催化剂及其应用

摘要

本发明涉及一种CVD生长石墨烯用铜膜催化剂及其应用,所述铜膜催化剂包括:表面憎水处理的石英片作为基材,以及形成在基材表面的铜膜。

著录项

  • 公开/公告号CN112916004A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院上海硅酸盐研究所;

    申请/专利号CN201911242745.8

  • 申请日2019-12-06

  • 分类号B01J23/72(20060101);B01J35/02(20060101);C01B32/186(20170101);

  • 代理机构31261 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人曹芳玲;郑优丽

  • 地址 200050 上海市长宁区定西路1295号

  • 入库时间 2023-06-19 11:21:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-09

    授权

    发明专利权授予

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