等径生长控制系统和等径生长控制方法

摘要

本发明涉及一种等径生长控制系统，包括等径控制装置：等径控制装置包括固液界面高度变化测量结构、硅晶棒直径测量结构和控制结构；固液界面高度变化测量结构包括连接件、图像获取部和第一处理部，连接件的第一端与导流筒靠近硅熔体的一端连接，图像获取部用于获取连接件的第一图像和连接件在硅熔体上的倒影的第二图像，第一处理部用于根据第一图像和第二图像之间的位置关系获得固液界面的高度变化；硅晶棒直径测量结构用于测量固液界面处、硅晶棒的测量直径；控制结构用于根据固液界面的高度变化和硅晶棒的测量直径获得固液界面处的硅晶棒的实际直径，并根据实际直径控制提拉装置的提拉速度。本发明还涉及一种等径生长控制方法。