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二硫化铼或二硒化铼晶体的制备方法

摘要

本发明公开了一种二硫化铼或二硒化铼晶体的制备方法。所述方法先将铼粉、硫粉或硒粉及碘传输剂超声混合均匀,并以丙烷或氢氧焰密封端口,然后置于双温区管式炉中预热,源区温度升高后进行正式反应,待生长完成后,先缓慢降温再自然降温,制得二硫化铼或二硒化铼晶体。本发明利用化学气相输运法,采用封闭系统,反应条件可控,合成稳定且重复性高,能够为机械剥离提供高质量的层状材料块状晶体。

著录项

  • 公开/公告号CN112593291A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京理工大学;

    申请/专利号CN202011321973.7

  • 申请日2020-11-23

  • 分类号C30B29/46(20060101);C30B25/00(20060101);

  • 代理机构32203 南京理工大学专利中心;

  • 代理人刘海霞

  • 地址 210094 江苏省南京市孝陵卫200号

  • 入库时间 2023-06-19 10:27:30

说明书

技术领域

本发明属于二维过渡金属硫族化合物的制备领域,涉及一种二硫化铼或二硒化铼晶体的制备方法。

背景技术

近年来,以石墨烯的研究为契机,各类二维材料的合成制备、物性研究及其器件研发都蓬勃发展起来。以二维过渡金属硫族化合物为例,组分和结构的多样性,使其具备丰富的物理化学性质,电学性质涵盖绝缘体、半导体至金属,在传感器、电化学催化、光电器件等领域拥有广阔的应用前景。

二维材料的高质量制备是开展物性研究以及器件构筑的前提与基础。目前二维材料制备方法主要包括“自上而下”的剥离法和“自下而上”的合成法。机械剥离是最早用于超薄二维材料制备的方法,人类历史上发现的第一种二维材料——石墨烯就是由机械剥离法制备得到的。对于元素丰度较高、化学性质稳定的材料,自然界通常存在天然的矿石,例如:辉钼矿的主要成分是二硫化钼,辉钨矿的主要成分是二硫化钨。但是,对于元素丰度较低、化学性质不太稳定的材料,就需要在实验室人工合成。

以VIIB族铼基二硫化物ReX

发明内容

本发明的目的在于提供一种利用化学气相输运法制备二硫化铼或二硒化铼晶体的方法。

实现本发明目的的技术方案如下:

二硫化铼或二硒化铼晶体的制备方法,包括以下步骤:

步骤1,装样:将铼粉、硫粉或硒粉按化学计量比1:2,及碘传输剂,装入石英安瓿管中,用封口胶密封,超声处理;

步骤2,封装:将石英安瓿管真空度抽至10

步骤3,反应物预热:将石英安瓿管水平放置到双温区管式炉中,将源区和生长区的温度分别加热至900℃和1000℃,并保持24h;

步骤4,正式反应:将源区温度升至1060℃,同时保持生长区温度不变,在源区温度1060℃、生长区温度1000℃的温度梯度下生长;

步骤5,降温:生长完成后,以缓慢速率等待源区和生长区温度分别降至900和840℃,最后自然降至室温,制得二硫化铼或二硒化铼晶体。

优选地,步骤1中,使用的石英安瓿管内径为10mm,长度为20cm。

步骤1中,碘传输剂与药品总质量的比例为2:300~800。为防止生长源过多导致的生长过程中管内压强过大,药品总质量优选为300mg~800mg,碘传输剂的质量为2mg。

优选地,步骤1中,超声功率为28W,处理时间为15~30min。

优选地,步骤3中,为防止由于加热过快导致的石英安瓿管破裂,加热速率不超过200℃/h。

优选地,步骤4中,源区升温过程中,升温速率为20~40℃/h。

步骤4中,最终获得块体材料的尺寸大小取决于生长时间的长短,制备材料块体的生长时间一般设定为2天至2周。

优选地,步骤5中,缓慢降温过程中,降温速率为4~20℃/h。

与现有技术相比,本发明具有以下优点:

本发明利用化学气相输运法,通过调节特定参数(如生长源质量、温度梯度、生长时间等),制备较为稀有的ReS

附图说明

图1为化学气相输运的装置示意图。

图2为ReS

图3为ReS

图4为快速降温,ReS

具体实施方式

下面结合实施例和附图对本发明作进一步详述。

实施例1

①装样:将铼粉(99.999%,22目,Alfa Aesar),与硫粉(99.999%,沪试)或者硒粉(99.99%,通广)严格按照化学计量比1:2,及2mg的单质碘作为传输剂,药品总质量为600mg,装入内径为10mm,长度为20cm的石英安瓿管中,超声处理30min以使药品充分混合。为避免单质碘的挥发,超声处理时需以封口膜密封进样口。

②封装:将石英安瓿管真空度抽至约10

③反应物预热:将石英安瓿管水平放置到双温区管式炉中,将源区和生长区的温度,在8h内,由室温分别加热至900℃和1000℃,保持温度24h。

④正式反应:将源区温度以+20℃/h的速率由900℃升至1060℃,同时保持生长区温度1000℃不变,在源区温度1060℃、生长区温度1000℃的温度梯度下生长。如图2所示,为生长72h后获得的ReS

⑤降温:生长结束后,以-4℃/h的缓慢速率,将源区和生长区温度分别降至900℃和840℃,然后自然降至室温即可。

利用X射线衍射图谱表征制备晶体的组成及其结构,如图3所示,证明确为ReS

对比例1

本对比例与实施例1基本相同,唯一不同是没有经过缓慢速率降温,生长过程结束后,直接自然降至室温。如图4所示,为直接降温后,合成的ReS

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