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高密度等离子体增强化学气相沉积腔室

摘要

本公开内容涉及用于沉积腔室的喷头的方法和设备。在一个实施方式中,提供一种用于等离子体沉积腔室的喷头,所述喷头包括:多个穿孔砖,每个穿孔砖耦接于多个支撑构件中的一者或多者;和位于喷头内的多个电感耦合器,其中所述多个电感耦合器中的一个电感耦合器对应于所述多个穿孔砖中的一者,其中这些支撑构件将前驱物气体提供到在这些电感耦合器和这些穿孔砖之间形成的容积。

著录项

  • 公开/公告号CN112534557A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201980050508.3

  • 申请日2019-07-19

  • 分类号H01L21/67(20060101);H01L21/683(20060101);H05H1/46(20060101);H01J37/32(20060101);H01L21/02(20060101);

  • 代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国;赵静

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 10:18:07

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