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机译:高压鞘层电场和离子增强刻蚀对高密度等离子体化学气相沉积中碳纳米纤维生长的影响
Department of Engineering and System Science, National Tsing Hua University, Hsinchu 30013, Taiwan, Republic of China;
机译:通过等离子体增强化学气相沉积在强电场中碳纳米纤维生长的动态模型
机译:等离子体增强化学气相沉积强电场碳纳米纤维生长的动态建模
机译:微观和宏观等离子鞘电场对交叉场射频放电中碳纳米管生长的影响
机译:化学气相沉积法制备高场发射电流碳纳米管
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:利用介电势垒放电(DBD)作为等离子源的胡萝卜汁质量参数探索高压电场冷等离子(HVCP)的潜力
机译:金属有机化学气相沉积法生长的n-GaN中的等离子体蚀刻增强深中心