一种PDMS微流控芯片加工中套刻工艺的对准操作流程

摘要

本发明公开了一种PDMS微流控芯片加工中套刻工艺的对准操作流程，本发明在光刻之前充分、系统地做好准备工作，光刻时便得心应手，可以快速而顺利完成套刻对准。准备工作完成后，光刻机操作时间可以控制在半小时以内，提高了工作效率，也减少了机器的消耗。使用本发明的技术方案，初学者也能较好地完成高难度的套刻对准。使用本技术方案在普通国产曝光机JKG‑2A进行套刻也可以实现与进口光刻机ABM.Inc.Mask Aligner相同的套刻结果，使用本技术进行微流控加工的套刻对准，对准偏差小于5微米，然而对准精度要求为只要能连通高低通道即可，完全满足微流控芯片加工使用。