公开/公告号CN112236722A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-15
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201980030845.6
申请日2019-04-16
分类号G03F7/20(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王益
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2023-06-19 09:33:52
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-07-21
授权
发明专利权授予
机译: 确定与计算光刻掩模模型相关联的电磁场的方法
机译: 用于确定截断图以估计与真实地下区域相关联的百日草地质参数的方法,该方法用于确定在地下地质存储介质模型中估计的参数的方法,该模型是真实的而非临时的,在计算机中具有以及用于确定截断图以估计与真实地下区域相关的地质参数的百日草的设备
机译: 由一个或多个处理器执行的一个或多个指令中的一个或多个指令中的一个,所述处理器执行用于形成光刻掩模版图的方法,用于形成光刻掩模版图的装置以及用于形成光刻掩模版图的方法。包含一个或多个序列的计算机可读介质。