掺杂剂加料器、掺杂半导体材料的制备系统及方法

摘要

本申请提供了一种掺杂剂加料器、掺杂半导体材料的制备系统及方法，涉及半导体材料制备技术领域。该掺杂剂加料器，用于掺杂半导体材料的制备，所述掺杂剂加料器为密封式结构，所述密封式结构的内部具有容纳空间，所述容纳空间用于盛装掺杂剂；其中，所述掺杂剂加料器的材质包括含硅材料，在制备所述掺杂半导体材料的过程中，所述掺杂剂加料器以及内部的掺杂剂在热场加热下适于形成熔体，用以制备所述掺杂半导体材料。本申请能够精确的控制掺杂剂的掺杂量，提供足够均匀的电阻率分布，提高生产效率，结构简单，操作方便。