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具有铁电介质的二维材料双栅存算一体器件及制备方法

摘要

一种具有铁电背栅的二维材料双栅场效应器件,包括:绝缘衬底(100),背部栅电极(200),形成于绝缘衬底(100)上,铁电介质层(300),形成于背部栅电极(200)上,以及,绝缘衬底(100)未被背部栅电极(200)覆盖的表面上,二维材料沟道(400),形成于铁电介质层(300)上,漏电极(501)和源电极(502),形成于铁电介质层(300)上,并且位于二维材料沟道(400)的两侧,顶部常规栅介质层(600),形成于二维材料沟道(400)以及漏电极(501)、源电极(502)的表面上,顶部栅电极(700),形成于顶部常规栅介质层(600)上。该器件结构可以实现将存储和计算集成在一个晶体管,具有功耗低、占用面积小,可推广性强的优点。

著录项

  • 公开/公告号CN112038406A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;

    申请/专利号CN202010891911.3

  • 申请日2020-08-28

  • 分类号H01L29/78(20060101);H01L29/24(20060101);H01L29/51(20060101);H01L21/34(20060101);H01L51/05(20060101);H01L51/10(20060101);H01L51/30(20060101);H01L51/40(20060101);H01L27/1159(20170101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人周天宇

  • 地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号

  • 入库时间 2023-06-19 09:07:30

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