公开/公告号CN112038406A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-12-04
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;
申请/专利号CN202010891911.3
申请日2020-08-28
分类号H01L29/78(20060101);H01L29/24(20060101);H01L29/51(20060101);H01L21/34(20060101);H01L51/05(20060101);H01L51/10(20060101);H01L51/30(20060101);H01L51/40(20060101);H01L27/1159(20170101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人周天宇
地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号
入库时间 2023-06-19 09:07:30
机译: 具有多阈值电压的平面双栅器件的多栅介质厚度的结构和制造方法
机译: 具有金属栅电极的半导体器件的高介电常数栅电介质及其制备方法
机译: 具有双电介质限制的铁电存储器件及其形成方法