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一种降低飞秒激光引入结构所需时间的装置和方法

摘要

本发明公开了一种降低飞秒激光引入结构所需时间的装置和方法,属于激光加工领域。方法包括:产生第一个飞秒激光脉冲、第二个飞秒激光脉冲、……、第N个飞秒激光脉冲,N为大于或等于2的整数;调制N个飞秒激光脉冲的延迟时间,使N个飞秒激光脉冲中相邻两个飞秒激光脉冲的后一个飞秒激光脉冲到达对应反射镜的时间落后于前一个飞秒激光脉冲;将所述第一个飞秒激光脉冲以及延迟后的N‑1个飞秒激光脉冲反射至物镜中;将反射至物镜中的N个飞秒激光脉冲聚焦到加工材料内部的加工区域,形成各向异性结构。本发明相对于普通的脉冲串,将生成纳米光栅结构所需的飞秒激光加工时长从微秒纳秒量级缩短至皮秒量级,能够满足光存储等对速度有很高要求的应用。

著录项

  • 公开/公告号CN111992878A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN202010962160.X

  • 发明设计人 张静宇;颜志;高骥超;

    申请日2020-09-14

  • 分类号B23K26/0622(20140101);B23K26/70(20140101);

  • 代理机构42201 华中科技大学专利中心;

  • 代理人李智

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2023-06-19 09:03:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-10-28

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B23K26/0622 专利申请号:202010962160X 申请公布日:20201127

    发明专利申请公布后的驳回

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