公开/公告号CN111965500A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-11-20
原文格式PDF
申请/专利号CN202010764139.9
申请日2020-08-01
分类号G01R31/12(20060101);
代理机构21100 辽宁沈阳国兴知识产权代理有限公司;
代理人何学军;侯景明
地址 110006 辽宁省沈阳市和平区四平街39-7号
入库时间 2023-06-19 08:58:14
机译: 适用于检测电弧放电的测量装置和检测电弧放电的方法
机译: 一维尺寸测量装置和一种适用于该尺寸测量装置的工作机以及一种使用该尺寸测量装置的一维测量方法
机译: 一种用于确定带有匀场的a的方法,该方法用于对c的电弧的不均匀性进行被动校正-磁共振断层扫描仪和线圈设备,适用于该方法