一种晶圆表面膜层沉积装置、沉积方法和半导体器件

摘要

本发明提供一种晶圆表面膜层沉积装置、方法和半导体器件，其中，该装置包括：至少两个进气气路；与进气气路连接的喷射单元，用于根据每个进气气路的通气流量，分别将反应物喷射至与每个进气气路相对应的晶圆表面上的区域；其中，所述晶圆表面上的区域包括：以晶圆中心为圆心的圆形区域和至少一个圆环形区域，每个区域对应一个进气气路。本方案能够在沉积过程中，通过调整晶圆表面圆形和圆环形区域对应进气气路的气流流量，来控制沉积层的厚度，从而使沉积层更加均匀，形状轮廓更加平坦。