公开/公告号CN111819154A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-23
原文格式PDF
申请/专利权人 国立研究开发法人科学技术振兴机构;
申请/专利号CN201980017648.0
申请日2019-03-13
分类号C01F17/224(20200101);C01F17/229(20200101);C01F17/235(20200101);C01F17/10(20200101);B01J23/63(20060101);C01C1/04(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人牛蔚然
地址 日本埼玉县
入库时间 2023-06-19 08:36:28
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-07-04
授权
发明专利权授予
机译: 负型感光性树脂组合物,电子设备,负型感光性聚合物的制造方法以及负型感光性树脂组合物的制造方法
机译: 使用负性抗蚀剂组合物,负性抗蚀剂组合物和电子元件的图案化工艺
机译: 负性光敏组合物,负性光敏图片形成材料以及使用相同的负性图片形成方法