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PNP双极型晶体管制造方法

摘要

本发明涉及PNP双极型晶体管制造方法,涉及半导体集成电路制造技术,通过在PNP双极型晶体管的发射极引入氟离子,利用氟对硼离子的扩散抑制作用和剂量损失加强作用,可调节PNP双极型晶体管的Vbe参数,Vbe是指晶体管处于导通状态时的发射结电压,并通过调节氟离子注入能量和剂量实现PNP双极型晶体管的Vbe参数的可控调节,为带隙基准电压源电路的灵活设计奠定基础。

著录项

  • 公开/公告号CN111785630A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力集成电路制造有限公司;

    申请/专利号CN202010679216.0

  • 发明设计人 石晶;朱巧智;

    申请日2020-07-15

  • 分类号H01L21/331(20060101);H01L29/417(20060101);H01L29/43(20060101);H01L21/265(20060101);

  • 代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人张彦敏

  • 地址 201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室

  • 入库时间 2023-06-19 08:34:56

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