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【2h】

Développement et étude de transistors bipolaires à hétérojonctions Si/SiGeC de type pnp sur substrats SOI minces

机译:在薄SOI衬底上具有Si / SiGeC pnp型异质结的双极型晶体管的研究与开发。

摘要

Récemment, les transistors bipolaires de type pnp sur silicium ont connu un regain d’intérêt avec le développement des technologies BiCMOS complémentaires. De plus, en utilisant un substrat SOI mince au lieu d’un substrat massif, les caractéristiques des transistors MOS et des composants passifs s’en trouvent améliorées. Le travail effectué durant cette thèse a pour objet la mise au point et l’étude de transistors bipolaires à hétérojonctions Si/SiGeC de type pnp sur SOI mince performants, en vue de leur intégration dans une technologie BiCMOS SiGe complémentaire sur SOI mince _____________________________________________________________ Recently, Si pnp bipolar transistors have known an increasingly interest with the development of complementary BiCMOS technologies. Furthermore, by using a thin-SOI substrate instead of a bulk substrate, MOS transistor and passive devices performances are improved.udThe work performed during this thesis aims at developing and studying pnp Si/SiGeC heterojunction bipolar transistors on thin-SOI to integrate them into a thin-SOI complementary SiGe BiCMOS technologyud
机译:最近,随着互补BiCMOS技术的发展,pnp双极型硅晶体管引起了人们的新兴趣。另外,通过使用薄的SOI衬底代替固体衬底,改善了MOS晶体管和无源部件的特性。本论文进行的工作旨在开发和研究薄SOI上具有pnp型异质结Si / SiGeC的双极晶体管,以便将其集成到薄SOI上的互补BiCMOS SiGe技术中。_____________________________________________________________随着互补BiCMOS技术的发展,Si pnp双极型晶体管越来越引起人们的兴趣。此外,通过使用薄SOI衬底代替体衬底,可以提高MOS晶体管和无源器件的性能。 Ud本文所进行的工作旨在开发和研究薄SOI上的pnp Si / SiGeC异质结双极晶体管,以将它们集成在一起。成为薄型SOI互补SiGe BiCMOS技术 ud

著录项

  • 作者

    Duvernay Julien;

  • 作者单位
  • 年度 2008
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