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具有磷和砷共掺杂剂的源极或漏极结构

摘要

描述了具有带有磷和砷共掺杂剂的源极或漏极结构的集成电路结构。在示例中,集成电路结构包括具有下部鳍状物部分和上部鳍状物部分的鳍状物。栅极堆叠体在鳍状物的上部鳍状物部分之上,该栅极堆叠体具有与第二侧相对的第一侧。第一源极或漏极结构包括在栅极堆叠体的第一侧嵌入在鳍状物中的外延结构。第二源极或漏极结构包括在栅极堆叠体的第二侧嵌入在鳍状物中的外延结构。第一和第二源极或漏极结构包括硅、磷和砷,其中磷的原子浓度与砷的原子浓度基本上相同。

著录项

  • 公开/公告号CN111755440A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英特尔公司;

    申请/专利号CN202010126284.4

  • 申请日2020-02-27

  • 分类号H01L27/088(20060101);H01L29/417(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人邬少俊

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2023-06-19 08:30:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/088 专利申请号:2020101262844 申请日:20200227

    实质审查的生效

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