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利用单次曝光形成多层图案的具有三种状态的光掩模

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摘要

本发明提供了用于光刻曝光工艺的掩模的一个实施例。该掩模包括：掩模衬底；第一掩模材料层，被图案化以具有限定第一层图案的多个第一开口；以及第二掩模材料层，被图案化以具有限定第二层图案的多个第二开口。本发明还公开了利用单次曝光形成多层图案的具有三种状态的光掩模。

公开/公告号CN111708250A

专利类型发明专利
公开/公告日2020-09-25

原文格式PDF
申请/专利权人台湾积体电路制造股份有限公司;
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申请/专利号CN202010531834.0
发明设计人卢彦丞;石志聪;游信胜;陈政宏;严涛南;
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申请日2013-12-19
分类号G03F1/22(20120101);G03F1/50(20120101);G03F1/20(20120101);G03F1/58(20120101);G03F7/039(20060101);G03F7/095(20060101);G03F7/20(20060101);H01L21/027(20060101);H01L21/033(20060101);H01L21/308(20060101);H01L21/311(20060101);H01L21/768(20060101);
代理机构11409 北京德恒律治知识产权代理有限公司;
代理人章社杲;李伟
地址中国台湾新竹
入库时间 2023-06-19 08:22:20

1. 利用单次曝光形成多层图案的具有三种状态的光掩模 [P] . 中国专利： CN104155844B . 2020.07.07
2. 利用单次曝光形成多层图案的具有三种状态的光掩模 [P] . 中国专利： CN104155844A . 2014-11-19
3. Photomask with three states for forming multiple layer patterns with a single exposure [P] . 美国专利： US9535316B2 . 2017-01-03

机译：具有三种状态的光掩模，一次曝光即可形成多层图案
4. Photomask With Three States For Forming Multiple Layer Patterns With A Single Exposure [P] . 美国专利： US2014342564A1 . 2014-11-20

机译：具有三种状态的光掩模，一次曝光即可形成多层图案
5. 3 PHOTOMASK WITH THREE STATES FOR FORMING MULTIPLE LAYER PATTERNS WITH A SINGLE EXPOSURE [P] . 韩国专利： KR101719867B1 . 2017-04-04

机译： 3具有三种状态的光掩膜，可形成单次曝光的多层图案