激光退火装置、掩膜、薄膜晶体管和激光退火方法

摘要

本发明提供能够进行电子迁移率局部不同的退火处理的激光退火装置、掩膜、薄膜晶体管和激光退火方法。激光退火装置具备掩膜，掩膜上沿着扫描方向形成有若干个开口部，使基板在扫描方向上移动，通过开口部将激光照射到基板上，若干个开口部具有沿着扫描方向整齐排列且形状相同的第一开口区域，若干个开口部中的一部分开口部具有第二开口区域，第二开口区域在相对于第一开口区域的规定方向上与第一开口区域相连。