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低接触电阻石墨烯装置集成

摘要

本发明涉及低接触电阻石墨烯装置集成。一种电子装置(100)具有带有一或多个石墨烯原子层的石墨烯层(106),具有包含直接位于所述石墨烯层(106)上的掺杂碳的金属层(110)的低电阻触点。所述电子装置(100)是通过在所述电子装置(100)的衬底层(102)上形成掺杂碳的金属层(110)而形成。随后将所述掺杂碳的金属层(110)加热到一温度且随后进行冷却,在所述温度以上所述掺杂碳的金属层(110)中的碳(114)变得移动。所述掺杂碳的金属层(110)中的所述碳(114)在所述掺杂碳的金属层(110)下方并在所述衬底层(102)上方形成所述石墨烯层(106)。从接触区域以外的区域移除所述掺杂碳的金属层(110),从而留下所述接触区域中的所述掺杂碳的金属层(110)以提供到所述石墨烯层(106)的接触层。

著录项

  • 公开/公告号CN108735805A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-11-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 德州仪器公司;

    申请/专利号CN201810380338.2

  • 申请日2018-04-25

  • 分类号

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人林斯凯

  • 地址 美国德克萨斯州

  • 入库时间 2023-06-19 06:58:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/45 申请日:20180425

    实质审查的生效

  • 2018-11-02

    公开

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