法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-06-28
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/48 申请日:20180328
实质审查的生效
2018-10-16
公开
公开
机译: 用于形成电子束或极端紫外光光刻的抗蚀剂底层膜的组合物,抵抗电子束或极端紫外光光刻的底层膜,以及用于制造半导体衬底的方法
机译: 光学系统,例如用于制造集成电路的极紫外光刻系统,具有控制装置,该控制装置从光学元件提供热量或从热量释放热量,以在表面暴露期间保持/控制元件的变形
机译: 用于极紫外光刻的反射装置,应用于其的极紫外光刻掩模,投影光学系统和光刻设备