首页> 中国专利> 制备用于生长氮化镓的衬底和制备氮化镓衬底的方法

制备用于生长氮化镓的衬底和制备氮化镓衬底的方法

摘要

本发明是有关一种制备用于生长氮化镓的衬底和制备氮化镓衬底的方法。所述方法包含:对硅衬底的表面执行热清洁;以原位方式在硅衬底的表面上形成氮化硅微掩膜;以及使用微掩膜中的开口通过外延横向过生长而生长氮化镓层。根据所述方法,通过改进典型的外延横向过生长,可简化用于制备用于生长氮化镓的衬底和氮化镓衬底的方法且减少加工成本。

著录项

  • 公开/公告号CN101388338B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-03-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社SILTRON;

    申请/专利号CN200810211828.6

  • 申请日2008-09-09

  • 分类号

  • 代理机构北京中原华和知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人寿宁

  • 地址 韩国庆尚北道龟尾市临洙洞274

  • 入库时间 2022-08-23 09:12:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-03-06

    授权

    授权

  • 2010-07-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/20 申请日:20080909

    实质审查的生效

  • 2009-03-18

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号