一种利用原子力显微镜测量极片表面SEI膜厚度的方法

摘要

本发明涉及一种利用原子力显微镜测量极片表面SEI膜厚度的方法。该方法包括：1)将经过充放电的极片在原子力显微镜下以PEAKFORCE QNM模式对其表面形态进行测量，得到初始表面形态数据；2)采用CONTACT模式对表面进行刻蚀，再切换到PEAKFORCE QNM模式对刻蚀后的表面形态进行测量，得到刻蚀后表面形态数据；3)重复步骤2)，直至刻蚀后表面形态数据不发生变化，切换到PEAKFORCE QNM模式对SEI膜的基体的表面形态进行测量，得到基体表面形态数据；4)根据初始表面形态数据和基体表面形态数据的差异，确定SEI膜的厚度。该方法通过交替使用两种测量模式提高了SEI膜厚度检测的准确性。