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一种新颖的MEMS表面工艺牺牲层厚度的电测量方法

     

摘要

牺牲层厚度是MEMS表面工艺中的一个重要参数,对它的测量和控制有着重要的意义.目前大多采用光机械的方法来测量,但是测试方法复杂、测试时间长.本文介绍了一种新颖的MEMS表面工艺牺牲层厚度测试技术,实现了牺牲层厚度的电测量,测试方法简单快捷,并且很便于测试系统集成.

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