放射线敏感性树脂组合物、抗蚀剂图案形成方法和酸扩散控制剂

摘要

本发明是含有第1聚合物、放射线敏感性产酸物和第1化合物的放射线敏感性树脂组合物，上述第1聚合物具有含有酸解离性基团的第1结构单元，上述第1化合物通过放射线的照射在分子内结构发生变化而能形成盐。上述第1化合物优选为通过放射线的照射而碱性发生变化的化合物。上述第1化合物优选为通过放射线的照射而产生酸的化合物。上述第1化合物优选由下述式(1)表示。下述式(1)中，Ar1为含有至少1个氮原子作为环构成原子的取代或无取代的环元数4～30的杂芳烃二基。