Peeling Analysis of ArF Resist Pattern on BARC by using AFM

机译：用AFM剥离ARF抗蚀剂图案的抗蚀剂图案

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Kazutoshi Kurano; Takahiro Kishioka; Yoshiomi Hiroi; Takuya Ohashi; Akira Kawai;
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年度 2007
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2. Peeling Analysis of ArF Resist Pattern on BARC by using AFM [J] . Kazutoshi Kurano, Takahiro Kishioka, Yoshiomi Hiroi Journal of Photopolymer Science and Technology . 2007,第6期

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