用于材料沉积源布置的分配组件的喷嘴、材料沉积源布置、真空沉积系统和用于沉积材料的方法

摘要

描述了一种用于连接至分配组件的喷嘴(100)，分配组件用于将已蒸发的材料从材料源引导至真空腔室中。喷嘴包括：用于接收已蒸发的材料的喷嘴入口(110)；用于将已蒸发的材料释放至真空腔室的喷嘴出口(120)；以及在流动方向(111)上从喷嘴入口(110)延伸至喷嘴出口(120)的喷嘴通道(130)，其中喷嘴通道(130)包括具有孔径角(α)的出口区段(131)，孔径角在流动方向(111)上持续增加。另外，提供了一种具有此喷嘴的材料沉积布置、一种具有材料源布置的真空沉积系统、以及一种用于沉积已蒸发的材料的方法。