使用非对称亚分辨率特征改善测量的光刻过程的光学量测术

摘要

提供了一种校准模型的过程，所述过程包括：获得训练数据，所述训练数据包括：来自多个结构的散射辐射信息，所述散射辐射信息的各个部分与相应的过程条件相关联，所述相应的过程条件是各个结构的图案形成过程的特性；以及使用一个或更多个处理器利用训练数据通过确定将所述过程特性中的一个过程特性的变化与散射辐射信息中的对应变化相关联的第一比率来校准模型。