提高分辨率增大焦深的光学光刻新技术

摘要

提高分辨率，增大焦深，是限制光学光刻发展的主要因素。本文通过对光学光刻现状及潜能的分析，说明光学光刻可实现亚半微米ＩＣ的工业化生产。进而阐述了既可改善焦深又能提高分辨率的光学光刻新技术。