提高光刻机可用焦深的方法

摘要

本发明揭示了一种提高光刻机可用焦深的方法。本方法通过配置仿真工艺环境，确定符合误差要求的正面曝光剂量范围以及背面曝光剂量范围，然后对所述正面曝光剂量和背面曝光剂量的范围进行优化，获得正面曝光剂量和背面曝光剂量的最佳组合。采用本发明的提高光刻机可用焦深的方法可以有效增大可用焦深，达到提高基底上图形均匀性，减少色差的效果。