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一种晶圆制造过程中检测缺陷的定位和跟踪方法

摘要

本发明公开了一种晶圆制造过程中检测缺陷的定位和跟踪方法,利用不同波长的PL信号来探测缺陷;通过在晶圆上形成检测机台可见的直接标记,通过对准标记,实现对晶圆中缺陷的精确定位,获得缺陷的具体位置或缺陷所在的位置范围。解决了晶圆制造过程中检测缺陷定位与跟踪困难的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN108376655A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-08-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京世纪金光半导体有限公司;

    申请/专利号CN201810086978.2

  • 申请日2018-01-30

  • 分类号H01L21/66(20060101);

  • 代理机构11003 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人张宇锋

  • 地址 100176 北京市大兴区经济技术开发区通惠干渠路17号院

  • 入库时间 2023-06-19 06:31:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/66 申请日:20180130

    实质审查的生效

  • 2018-08-07

    公开

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