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半导体制造装置及其SMIF箱、晶圆传送箱的洁净方法

摘要

一种半导体制造装置及其SMIF箱、晶圆传送箱的洁净方法,该SMIF箱包括:箱体;设置在所述箱体上的进气道和排气道,所述进气道、排气道的两端均与大气相通。通过向SMIF箱的进气道充入纯净的气体,气体能自晶圆传送箱的进气口流入内腔内,以赶走晶圆传送箱内的杂质,然后依次自晶圆传送箱的排气口、SMIF箱的排气道排出,保证了晶圆传送箱的内腔始终为纯净的晶圆存储环境,避免了在晶圆传送箱与晶圆加工设备之间传送晶圆时,晶圆被污染,以及被污染的晶圆将污染物带入晶圆加工设备或晶圆传送箱内的问题发生。

著录项

  • 公开/公告号CN108231639A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 周正;

    申请/专利号CN201611192640.2

  • 发明设计人 周正;

    申请日2016-12-21

  • 分类号H01L21/677(20060101);H01L21/66(20060101);H01L21/67(20060101);B08B5/02(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人张亚利;吴敏

  • 地址 201315 上海市浦东新区康桥镇康弘路580弄12号501室

  • 入库时间 2023-06-19 05:49:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/677 申请日:20161221

    实质审查的生效

  • 2018-06-29

    公开

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