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布线构造体及其制造方法、半导体装置、多层布线构造体及其制造方法、半导体元件搭载用基板、图案构造体的形成方法、压印用的模具及其制造方法、压印模具组、以及多层布线基板的制造方法

摘要

本发明将模具与光固化性绝缘抗蚀剂层接触,在光照射后使模具分离,然后通过显影除去残存的光固化性绝缘抗蚀剂层,形成图案构造体,其中,模具具有模具用基材(112)和位于该模具用基材(112)的主面(112a)的凹凸构造(113),凹凸构造(113)具有多个布线形成用的线状的凸形状部(114)和焊盘部形成用的圆形的凸形状部(115),在焊盘部形成用的圆形的凸形状部(115)的顶部平面(115a)具备遮光层(116)。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/027 申请日:20160926

    实质审查的生效

  • 2018-06-15

    公开

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