首页> 中国专利> 具有改善的稳定性和改善的抛光特性的选择性氮化物淤浆

具有改善的稳定性和改善的抛光特性的选择性氮化物淤浆

摘要

本发明提供一种化学机械抛光组合物,其包括以下组分、基本上由以下组分组成、或由以下组分组成:(a)约0.01重量%至约1重量%的湿加工氧化铈,(b)约10ppm至约200ppm包含季氨基团的阳离子聚合物,(c)约10ppm至约2000ppm非氟化非离子表面活性剂,(d)氨基酸,和(e)水,其中该抛光组合物具有约3至约8的pH。本发明进一步提供一种使用该抛光组合物抛光基板的方法。

著录项

  • 公开/公告号CN108026432A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-05-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 嘉柏微电子材料股份公司;

    申请/专利号CN201680052336.X

  • 发明设计人 P.潘戴伊;张柱然;B.瑞斯;

    申请日2016-08-29

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人孙梵

  • 地址 美国伊利诺伊州

  • 入库时间 2023-06-19 05:17:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09K3/14 申请日:20160829

    实质审查的生效

  • 2018-05-11

    公开

    公开

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