首页> 中国专利> 晶圆表面形貌控制系统及控制方法

晶圆表面形貌控制系统及控制方法

摘要

本发明提供一种晶圆表面形貌控制系统及控制方法,所述晶圆表面形貌的控制方法包括如下步骤:1)提供一晶圆;2)对所述晶圆的表面进行化学机械抛光;3)依据化学机械抛光过程中对所述晶圆表面不同区域的去除情况设定刻蚀时间;4)依据所述刻蚀时间对所述晶圆表面的不同区域进行刻蚀。本发明通过依据化学机械抛光过程中对晶圆表面不同区域的去除情况设定对晶圆湿法刻蚀的刻蚀时间,湿法刻蚀过程中可以对化学机械抛光过程中对晶圆表面的形貌造成偏差进行补偿,使得湿法刻蚀后的晶圆具有良好的表面形貌,晶圆的表面形貌被有效控制在合理的工艺规格之内,避免了后续工艺中缺陷的产生。

著录项

  • 公开/公告号CN107946191A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-04-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 德淮半导体有限公司;

    申请/专利号CN201711085724.0

  • 申请日2017-11-07

  • 分类号H01L21/306(20060101);H01L21/67(20060101);

  • 代理机构上海光华专利事务所(普通合伙);

  • 代理人余明伟

  • 地址 223300 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号

  • 入库时间 2023-06-19 05:05:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-28

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L21/306 申请公布日:20180420 申请日:20171107

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2018-05-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/306 申请日:20171107

    实质审查的生效

  • 2018-04-20

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号