法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-04-10
实质审查的生效 IPC(主分类):C21D1/63 申请日:20171207
实质审查的生效
2018-03-16
公开
公开
机译: 一种确定热处理炉的预处理条件的方法,热处理炉的预处理方法,热处理装置和用于制造热处理的半导体晶片的方法和装置
机译: 基板热处理装置,基板热处理装置的温度控制方法,半导体装置的制造方法,基板热处理装置的温度控制程序以及记录介质
机译: 基板热处理装置,基板热处理装置的温度控制方法,半导体装置的制造方法,基板热处理装置的温度控制程序以及记录介质