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基于力调制微刻划/微压痕过程制备拉曼增强基底上阵列微纳米结构的实验装置及方法

摘要

本发明公开了一种基于力调制微刻划/微压痕过程制备拉曼增强基底上阵列微纳米结构的实验装置及方法,所述实验装置包括XY向精密移动控制器、Z向精密移动台控制器、纳米精度工作台、力传感器、金刚石探针、样品、宏动精密工作台,所述金刚石探针由纳米精度工作台经过力传感器带动进行Z向的运动;金刚石探针与样品之间的力信号由Z向精密移动台控制器上下移动控制;样品由XY向精密移动控制器经过宏动精密工作台带动在X‑Y平面内做二维运动。本发明加工过程中探针连续进行微刻划、压痕过程,同时带动样件的工作台作二维平动,实现高效、大范围的周期性阵列微纳结构的加工;加工过程中探针的垂直载荷实时改变,实现复杂的微纳结构的加工。

著录项

  • 公开/公告号CN107589104A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-01-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工业大学;

    申请/专利号CN201710672624.1

  • 发明设计人 闫永达;张景然;耿延泉;蔡建雄;

    申请日2017-08-08

  • 分类号G01N21/65(20060101);

  • 代理机构23206 哈尔滨龙科专利代理有限公司;

  • 代理人高媛

  • 地址 150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

  • 入库时间 2023-06-19 04:17:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-02-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/65 申请日:20170808

    实质审查的生效

  • 2018-01-16

    公开

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