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一种碲化铋和/或碲化锑基热电薄膜材料及其制备方法

摘要

本发明提出一种N型碲化铋和/或P型碲化锑基热电薄膜材料及其制备方法。采用本发明的制备方法制备出来的N型碲化铋和/或P型碲化锑基热电薄膜材料,不但可以使得厚度降到1mm以下,同时还能保持很高的折弯次数,便于在便携产品上使用,使得热电薄膜产品在厚度和性能上产生了根本性的改变。此外,本发明的热电薄膜的制备方法采用化学气象沉积(简称CVD),设备成本和工艺成本都较低。

著录项

  • 公开/公告号CN107579151A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-01-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州鸿凌达电子科技有限公司;

    申请/专利号CN201710866625.X

  • 发明设计人 郭志军;黄国伟;涂建军;王雷;

    申请日2017-09-22

  • 分类号

  • 代理机构上海宣宜专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘君

  • 地址 215000 江苏省苏州市昆山开发区蓬朗六时泾路245号3号房

  • 入库时间 2023-06-19 04:16:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L35/34 申请日:20170922

    实质审查的生效

  • 2018-01-12

    公开

    公开

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