公开/公告号CN107557858A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-01-09
原文格式PDF
申请/专利权人 武汉普迪真空科技有限公司;
申请/专利号CN201710848399.2
发明设计人 周焱文;
申请日2017-09-19
分类号C30B29/04(20060101);C30B25/20(20060101);C30B25/14(20060101);
代理机构31253 上海精晟知识产权代理有限公司;
代理人冯子玲
地址 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新四路40号葛洲坝太阳城23号楼101室
入库时间 2023-06-19 04:13:39
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-02-02
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B29/04 申请日:20170919
实质审查的生效
2018-01-09
公开
公开
机译: 金刚石在金刚石基底上的单晶同质外延生长-通过将冷却的基底保持在碳氢化合物气体和氧气的火焰中
机译: 用于制造金刚石或铱材料的单晶层的方法和用于外晶金刚石或铱材料的外晶层外延生长的方法
机译: 在碳化硅晶片上同质外延生长单晶碳化硅膜的方法