法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-06-15
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/498 申请日:20160419
实质审查的生效
2018-01-05
公开
公开
机译: 通过具有用于半导体器件的高纵横比的电介质导电路径
机译: 用于功率半导体工程领域的半导体器件通过绝缘填充层在导电路径层之间具有金属间电介质,从而在电介质上形成氮化硅氮氧化物层
机译: 用于功率半导体工程领域的半导体器件通过绝缘填充层在导电路径层之间具有金属间电介质,从而在电介质上形成氮化硅氮氧化物层