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用于半导体器件的具有高高宽比的穿过电介质的导电路径

摘要

描述了用于半导体器件的具有高高宽比的穿过电介质的导电路径。在一个示例中,在半导体基底上形成多个导电连接焊盘,以连接到形成在所述基底上的电路。在连接焊盘的子集中的每个连接焊盘上形成柱,该柱由导电材料形成。在半导体基底之上,包括在连接焊盘和柱之上形成电介质层。通过去除直接位于柱之上的电介质层来形成孔。利用导电材料填充所形成的孔,并在每个填充的孔之上形成连接器。

著录项

  • 公开/公告号CN107548519A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-01-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英特尔IP公司;

    申请/专利号CN201680022710.1

  • 发明设计人 T·迈尔;A·沃尔特;

    申请日2016-04-19

  • 分类号H01L23/498(20060101);H01L23/522(20060101);H01L21/60(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人林金朝;王英

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2023-06-19 04:10:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/498 申请日:20160419

    实质审查的生效

  • 2018-01-05

    公开

    公开

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