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压印光刻法、用于压印的主模板、线栅偏振器和显示基底

摘要

提供了一种压印光刻法、由该压印光刻法制造的主模板、使用该主模板制造的线栅偏振器以及具有该线栅偏振器的显示基底。所述压印光刻法包括:在第一区域和第三区域中的基底上形成第一压印图案,其中,第三区域与第一区域分隔开;在第二区域中的基底上形成第一抗蚀剂图案,其中,第二区域与第一区域和第三区域相邻;通过使用第一压印图案和第一抗蚀剂图案作为蚀刻阻挡件蚀刻第一压印图案下方的元件,在第一区域和第三区域中形成第一图案;在第二区域中的基底上形成第二压印图案;在第一区域和第三区域中的基底上形成第二抗蚀剂图案;通过使用第二压印图案和第二抗蚀剂图案作为蚀刻阻挡件蚀刻第二压印图案下方的元件,在第二区域中形成第二图案。

著录项

  • 公开/公告号CN107402498A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-11-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星显示有限公司;

    申请/专利号CN201710300846.0

  • 申请日2017-05-02

  • 分类号

  • 代理机构北京铭硕知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘灿强

  • 地址 韩国京畿道龙仁市

  • 入库时间 2023-06-19 03:54:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/00 申请日:20170502

    实质审查的生效

  • 2017-11-28

    公开

    公开

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